用HF（）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發(fā)酵、電拋光和清洗腐蝕半導(dǎo)體硅片（與HNO3的混酸）。因?yàn)闅湓雍头娱g結(jié)合的能力相對(duì)較強(qiáng)，形成典型的氫鍵，使得在水中不能完全電離。
的用途：
由于溶解氧化物的能力，它在鋁和鈾的提純中起著重要作用。也用來(lái)蝕刻玻璃，可以雕刻圖案、標(biāo)注刻度和文字；半導(dǎo)體工業(yè)使用它來(lái)除去硅表面的氧化物，在煉油廠(chǎng)中它可以用作異丁烷和正的烷基化反應(yīng)的催化劑，除去不銹鋼表面的含氧雜質(zhì)的“浸酸”過(guò)程中也會(huì)用到。也用于多種含氟物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）還有氟利昂一類(lèi)的致冷劑。 
和熔融氫氧化鈉都能用于微絲表面玻璃包覆層的去除，室溫下去除厚度為10 μm的玻璃包覆層的時(shí)間大約為150s，熔融氫氧化鈉大約需要10s；玻璃的成分和結(jié)構(gòu)是影響玻璃包覆純銅微絲耐腐蝕性能的重要因素。

由于溶解氧化物的能力，它在鋁和鈾的提純中起著重要作用。也用來(lái)蝕刻玻璃，可以雕刻圖案、標(biāo)注刻度和文字；半導(dǎo)體工業(yè)使用它來(lái)除去硅表面的氧化物，在煉油廠(chǎng)中它可以用作異丁烷和正丁烯的烷基化反應(yīng)的催化劑，除去不銹鋼表面的含氧雜質(zhì)的“浸酸”過(guò)程中也會(huì)用到。也用于多種含氟物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）還有氟利昂一類(lèi)的致冷劑。

的物理性質(zhì)：
市售通常濃度：溶質(zhì)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)40%，工業(yè)級(jí)；質(zhì)量分?jǐn)?shù)40%，電子級(jí)。為高度危害毒物。濃時(shí)的密度1.18g/cm3
隨著HF溶液質(zhì)量分?jǐn)?shù)的提高，HF對(duì)碳鋼的腐蝕速率是先升高后降低。
的化學(xué)性質(zhì)：
濃度低時(shí)因形成氫鍵具有弱酸性，但濃時(shí)（5mol/L以上）會(huì)發(fā)生自偶電離，此時(shí)是酸性很強(qiáng)的酸了。
液態(tài)是酸性很強(qiáng)的酸，酸度與無(wú)水硫酸相當(dāng)，腐蝕性強(qiáng)，應(yīng)在密閉的塑料瓶?jī)?nèi)保存。
用HF（）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發(fā)酵、電拋光和清洗腐蝕半導(dǎo)體硅片（與HNO3的混酸）。因?yàn)闅湓雍头娱g結(jié)合的能力相對(duì)較強(qiáng)，使得在水中不能完全電離。

是氣體的水溶液，清澈，無(wú)色、發(fā)煙的腐蝕性液體，有劇烈性氣味。熔點(diǎn)-83.3℃，沸點(diǎn)19.54℃，閃點(diǎn)112.2℃，密度1.15g/cm³。易溶于水。
因?yàn)闅湓雍头娱g結(jié)合的能力相對(duì)較強(qiáng)，且水溶液中分子間存在氫鍵，使得在水中不能完全電離，所以理論上低濃度的是一種弱酸。具有很強(qiáng)的腐蝕性，能強(qiáng)烈地腐蝕金屬、玻璃和含硅的物體。如吸入蒸氣或接觸皮膚會(huì)造成嚴(yán)重的灼傷。實(shí)驗(yàn)室一般用螢石（主要成分為氟化鈣）和來(lái)制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于陰涼處。
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